长时间电沉积钨涂层的研究文献综述

钨涂层以其优异的硬度、耐磨性、耐腐蚀性和高温稳定性，在航空航天、核能、微电子等领域展现出巨大的应用潜力。

电沉积作为一种高效、低成本的涂层制备技术，近年来受到广泛关注。

然而，传统电沉积方法制备的钨涂层厚度有限，难以满足实际应用需求。

长时间电沉积为获得厚层、高质量的钨涂层提供了新的思路。

本文综述了长时间电沉积钨涂层的国内外研究现状，重点阐述了长时间电沉积对涂层结构、性能的影响机制，并展望了该技术的发展趋势。

关键词：长时间电沉积；钨涂层；结构；性能；影响机制

随着现代工业的高速发展，对材料性能的要求日益提高。

钨作为一种高熔点金属，具有优异的硬度、耐磨性、耐腐蚀性和高温稳定性，在航空航天、核能、微电子等领域展现出巨大的应用潜力[1-4]。

例如，在航空航天领域，钨涂层可用于制备火箭发动机喷管、涡轮叶片等关键部件，以提高其耐高温、耐腐蚀和抗磨损性能；在核能领域，钨涂层可作为反应堆第一壁材料，以抵抗高温、高能粒子的轰击；在微电子领域，钨涂层可作为互连线材料，以提高芯片的集成度和性能。

电沉积作为一种高效、低成本、易于控制的涂层制备技术，近年来受到广泛关注[5]。