摘要
近年来，随着纳米科技的飞速发展，纳米级薄膜材料在各个领域都得到了广泛应用。
薄膜的厚度和光学常数是其最重要的物理参数，直接影响着薄膜的光学性能和器件的性能。
白光干涉法以其测量精度高、非破坏性等优点，成为测量薄膜厚度和光学常数的重要手段。
本文主要综述了基于白光干涉的纳米级薄膜厚度和光学常数测量技术的研究进展。
首先介绍了白光干涉法的工作原理、优缺点及应用范围。
然后，综述了国内外学者在基于白光干涉的薄膜厚度和光学常数测量方面取得的研究成果，包括测量方法、系统搭建、数据处理、误差分析等。
最后，对该领域未来的研究方向进行了展望。
本文主要研究内容包括：
1.阐述白光干涉法的基本原理、优缺点及应用范围。
2.综述国内外学者在基于白光干涉的薄膜厚度和光学常数测量方面取得的研究成果。
3.分析现有测量方法的优缺点，并展望该领域未来的发展方向。
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