单晶钒酸铋{010}面光催化沉积多硫化镍的光催化性能研究文献综述

钒酸铋(BiVO4)作为一种新型可见光催化剂，由于其窄带隙、良好的化学稳定性和低成本等优点，在解决能源危机和环境污染方面展现出巨大潜力。

然而，BiVO4光生电子-空穴对复合率高、光催化量子效率低等问题限制了其在实际应用中的发展。

本综述重点关注BiVO4{010}面的光催化性能研究，特别是多硫化镍(NiSx)作为助催化剂对BiVO4{010}面光催化活性的影响。

首先，介绍了BiVO4和NiSx的结构、性质和应用，并解释了光催化相关概念；其次，综述了BiVO4光催化剂的改性策略，包括形貌调控、晶面工程、掺杂改性以及构建异质结等；接着，重点阐述了NiSx/BiVO4复合光催化剂的制备方法和光催化性能，分析了NiSx助催化剂在提高BiVO4光催化活性方面的作用机制；最后，展望了单晶BiVO4{010}面光催化沉积NiSx的光催化性能研究方向和应用前景。

关键词：钒酸铋；{010}晶面；多硫化镍；光催化；助催化剂

随着工业化和城市化的快速发展，能源短缺和环境污染问题日益严峻。

寻求高效、清洁、可持续的能源转换和污染物降解技术迫在眉睫。

半导体光催化技术利用太阳能驱动光催化剂降解污染物或分解水制氢，被认为是解决上述问题的有效途径之一[1-3]。

光催化反应是指在光照条件下，光催化剂价带电子吸收光子能量被激发到导带，形成光生电子-空穴对。

光生电子和空穴迁移到光催化剂表面，与吸附的物质发生氧化还原反应，从而实现污染物降解或水分解等目的[4]。